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1、最省力的機(jī)械抛光;
機械抛光(guāng)分為粗抛光和細抛光。粗抛(pāo)光是在轉速200-300轉/分的電動抛光盤上(shàng)用粗呢絨進行(háng)的(de)。在粗抛光的過程中,要适當的撒上較粗的氧化鉻、氧化鋁(lǚ)或氧(yǎng)化鎂抛光液,并保持抛(pāo)光盤上呢絨的濕潤。在粗抛光過程中(zhōng)要拿緊(jǐn)試樣,沿(yán)抛光盤的(de)徑向往複運動,均勻地調(diào)整所施加的壓力,注意其壓力(lì)也不應過大。抛光開(kāi)始時,要不時的撒些(xiē)抛光液。以後慢慢減輕壓力,減低抛(pāo)光液的濃度直至(zhì)抛光到細磨痕消失,平整光亮且沒有黑點時為止。粗抛光的試樣經水洗淨後再進行細抛光,通過細抛光以求清除粗抛(pāo)光所留下的磨痕,使磨面光亮平整(zhěng)。細抛光所用的抛光機(jī)與粗抛光所用(yòng)的設備基本相(xiàng)同,其轉速為150-200轉/分。
細抛光采用(yòng)柔軟的毛(máo)織物,通常(cháng)用細(xì)呢絨(róng)進行抛光。抛(pāo)光粉要更細些,市(shì)面上售的氧化鉻經水選(xuǎn)浮後可用于細抛光。若要得到更好的抛光效果,可選用(yòng)細氧化鎂或氧化鋁作抛(pāo)光液在麂皮上手工抛光。在細抛光過程中施(shī)加的壓力應比粗抛光時(shí)輕,抛光液不要(yào)太濃,絨盤要保持一(yī)定的濕度。因為呢絨太幹,容易将磨面劃傷,出現較深較多的劃痕;呢絨太濕也不(bú)好,會使磨面氧化。呢(ne)絨濕度随着抛光過程的進行而逐漸減(jiǎn)少。經常觀察試樣細抛光的情況,提起後(hòu)在試樣的抛光面上不粘帶抛光液及小的水珠。而保持一吹(chuī)即幹的水膜時,要輕輕抛光。待試樣的粗抛光磨痕消失,基體(tǐ)清亮,拿起後在試樣(yàng)的抛光面上無水膜時,試樣的細抛光已經合适。若使用氧化鎂抛光粉時,要随用随配,用過後應将呢(ne)絨盤取下,放在(zài)流動水中仔細清洗,以防潮解變質。試樣在抛制過程中(zhōng)無論是粗抛光或細抛光都不(bú)宜時間過長,壓力過(guò)大,否則(zé)将抛掉合金中的相,使磨面的變(biàn)形層加深,從而影響抛(pāo)光質量,在下一步觀察時得(dé)出錯誤的(de)組織結論。
2、化學抛光(guāng);
化學抛光是讓材料在化學介質中表面微觀凸出的部分較(jiào)凹部分優先溶(róng)解,從而得到平滑面。這種方法的主要優點是不需複雜設備,可以抛光(guāng)形狀複雜的工(gōng)件,可以同時抛光很(hěn)多工件,效(xiào)率高。化學抛光的核心問題是抛光液的配制。化學抛光得到的表面粗糙度一般為數10μm。
3、最快速的(de)電解抛(pāo)光;
工件(jiàn)上脫離的金屬離子(zǐ)與抛光液中的磷酸形成一層磷酸鹽膜(mó)吸附在工件表面,這種黏膜在凸起處較薄,凹處較厚,因凸起處電(diàn)流密度高而溶解快,随黏膜流動,凹凸不(bú)斷變化,粗糙表面逐漸被整平(píng)的過程。
工件作為陽極接直流電源的正極。用鉛、不鏽鋼等耐電解液腐(fǔ)蝕的導電材料(liào)作為(wéi)陰極,接直流電(diàn)源的負極。兩者相距一定距離浸入(rù)電解液(一般以硫酸、磷酸為基本成分)中(zhōng),在一定溫(wēn)度、電壓和電流密度(一般低于1安/厘(lí)米2 )下,通電一定時間(jiān)(一(yī)般為幾十秒到(dào)幾(jǐ)分),工件表面上的微(wēi)小凸(tū)起部分便(biàn)首先溶解,而逐漸變成平滑光亮的表面。
4、最郁悶的(de)人工抛光;
打磨(mó)不(bú)鏽鋼彎(wān)頭的時(shí)候(hòu)要用80目的百葉砂輪(lún),黑色的比較好(hǎo)用,新手建議用紅色的,一定要慢,不能用力壓(yā),打磨時盡量放平打(dǎ)磨機。
全部都磨過了就開始換320目的百葉(yè)砂輪重新磨一次,320目砂輪必須要打磨的非常細緻,不然會留下80目砂輪的刮痕。
320目百葉砂輪(lún)打磨過了(le)之後,就給彎頭上蠟,新手上多點比較好(hǎo)。然後用紅麻輪繼續打磨, 這時就用(yòng)力的(de)壓着磨,越用力越好。
磨完後記得要把蠟搽幹淨(jìng),用點粉塵搽(chá)比較容易哦。
注意事項:注意打(dǎ)磨時不能操之過急,注意别磨到電線,長期存(cún)放的不鏽鋼彎頭,應作按(àn)期檢查,常(cháng)常對外露的加工表面須保持清潔(jié),清除污垢,整潔地存放在室内透風(fēng)幹燥的地方,嚴禁堆(duī)置(zhì)或露天(tiān)存放(fàng)。常常保持不鏽鋼彎頭的幹燥和透風,保持器的清潔和整潔,按照準确的存放方法存放(fàng)。